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非金属薄膜用小型2インチ高周波プラズママグネトロンスパッタリングコーティング装置

非金属薄膜用小型2インチ高周波プラズママグネトロンスパッタリングコーティング装置

非金属薄膜用小型2インチ高周波プラズママグネトロンスパッタリングコーティング装置

  • :

    VTC-2RF
  • MOQ :

    1
  • :

    20 days
  • Compliance:

    CE Certified
  • Warranty:

    1 year
  • Delivery Time:

  • 電子メール :

    [email protected]

非金属薄膜用小型2インチ高周波プラズママグネトロンスパッタリングコーティング装置


vtc-2rfはコンパクトな2 "シングルヘッドrfプラズママグネトロンスパッタリングシステムコーティング非金属、主に酸化物薄膜です。それはrf電源、石英真空チャンバー、真空ポンプ、再循環水を含む1フロアスタンドキャビネットにすべてのコンポーネントを統合しますチラーや膜厚モニターなど、r& dで非導電性材料の薄膜をコーティングするための優れた費用対効果の高いコーターです。

仕様

入力電源

  • 220 Vac、50 / 60hz、単相
  • 800W(ポンプを含む)
  • 電圧が110 Vacの場合、1000 Wのトランスが必要です。注文するには左の画像をクリックしてください。

ソース電源

  • 1 自動マッチング機能付き13.5 MHz、300 W RFジェネレータ 機能はキャビネットで造られ、2 "スパッタリングの頭部に接続されます。
  • 任意:dcスパッタリング電源は金属材料を塗るために利用できます

マグネトロンスパッタリングヘッド



  • 水冷ジャケット付きの2つの2 "マグネトロンスパッタリングヘッドが含まれており、クイッククランプを介して石英チャンバーに挿入
  • フランジに1つのシャッターが組み込まれています(手動操作)
  • マグネトロンスパッタリングヘッドの冷却には、16 l / minのデジタル制御再循環式ウォーターチラーが1つ必要です。
  • 1 "スパッタリングヘッドは追加料金で交換可能でオプション
  • 148 cmのrfケーブルは追加料金で交換可能

スパッタリングターゲット

  • 目標サイズの要件:最大直径2 "x 1/4"厚さ
  • デモテスト用に1つのsio2ターゲットが含まれています。
  • Al 2 O 3セラミックターゲット コーティング方法をお勧めします
  • ご要望に応じて、オプションの2インチスパッタリングターゲット(バッキングプレート付き)を追加料金で利用できます。

真空室

  • 真空チャンバ:外径160mm×内径150mm×高さ250mm。高純度石英製
  • シールフランジ:直径165 mm。高温シリコンOリング付きアルミニウム製
  • ステンレス製のメッシュカバーは、チャンバーからの100%のシールドRF放射のために含まれます
  • 真空レベル:付属のデュアルステージメカニカルポンプで1.0e-2トル、オプションのターボポンプで1.0e-5トル

サンプルホルダー

  • サンプルホルダーは回転可能で、ステンレス製のカバー付きのセラミックヒーターで加熱可能
  • サンプルホルダーのサイズ:直径50 mm。 2 "ウェーハ最大
  • 回転速度は調節可能です:1 - 10 rpmで均一なコーティング
  • ホルダー温度は、デジタル温度コントローラーにより±1.0℃の精度で室温から500℃まで調整可能です。
  • 800-1000ºC加熱サンプルホルダーは要望に応じて利用可能です。
  • パワーpvdコーティングには、オプションの振動サンプルホールドが可能です。 (下の写真3)

真空ポンプステーション


  • 真空ポンプに接続するためのkf25真空ポートが内蔵されています。
  • KF25アダプター付き真空ポンプが必要ですが、含まれていません..別に注文するために絵をクリックしてください。
  • 真空レベル:デュアルステージメカニカルポンプで1.0e-2トル、ターボポンプで1.0e-5トル

オプション

  • 精密石英厚さセンサーはオプションで、チャンバーに内蔵され、0.10Åの精度でコーティング厚さをモニターできます。ノートパソコンはディスプレイの厚さのcorveに必要です

全体寸法

正味重量

  • 70キロ

保証とコンプライアンス

  • 生涯サポート付き1年間限定保証
  • CE認定
  • nrtlまたはcsa認証は追加料金でリクエストに応じて利用可能です

アプリケーションノート

  • このコンパクトな2 "rfマグネトロンスパッタリングコーターは酸化物単結晶基板上に酸化物薄膜をコーティングするために設計されています。
  • >を使用してください。プラズマスパッタリング用5n純度arガス
  • 最良のフィルム - 基板接着強度のために、コーティングの前に基板表面をきれいにしてください:
    • オイルとグリースを除去するために、(1)アセトン、(2)イソプロピルアルコールの順次浴で超音波洗浄。 n2で基板をブロードライしてから、真空中でホットベイクして、吸収した水分を取り除きます。
    • 粗面化、表面化学結合の活性化、または追加の汚染除去にはプラズマクリーニングが必要になる場合があります。
    • cr、ti、mo、taなどの薄いバッファ層(〜5 nm)を適用して、金属や合金の密着性を向上させることができます。
  • 最高の性能を得るためには、非導電性ターゲットに銅製バッキングプレートを取り付ける必要があります。ターゲットボンディングについては、下記の説明ビデオ(#3)を参照してください。
  • tmaxはコーターを使用してalのznoを正常にコーティングしました 2 3 500℃での基質(写真#5のxrdプロファイル)
  • 水チラーで水道水を使用しないでください。コーラントとして、ジ水、蒸留水、または防錆添加剤を使用してください。





Magnetron Sputtering Coating









パッケージ:

1標準輸出パッケージ:内部衝突防止保護、外部輸出木製ボックス包装。

最も適切な方法を見つけるために顧客の要求に応じて海によって、速達による2出荷。

輸送過程の間の損害に対して責任がある3は、無料であなたのために損害を受けた部分を変えます。

納期 順序を確認した後15-20日、細部配達日はに従って決定されるべきです

製造シーズンと発注数量