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炉構造
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二重空冷ファンを備えた二重層鋼構造
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一対のスライドレールが炉の底部に取り付けられているため、炉を手動で左右に移動できます。
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すぐに使えるように真空フランジと真空計が取り付けられています。
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パワー
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1.5キロワット
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電圧
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炉：AC 208V〜240V単相、50 / 60Hz
スライド機構：AC 208V〜240V単相、50 / 60Hz
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最大温度
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ガスを流しながら1200℃（1時間以内）
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連続温度
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1100℃
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暖房＆冷却速度
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昇温速度：
１５℃／秒（室温〜１５０℃）。
10℃/秒（150℃〜250℃）。
7℃/秒（250℃〜350℃）。
4°C /秒（350°C - 500°C）。
３℃／秒（５００℃〜５５０℃）。
２℃／秒（５５０℃〜６５０℃）。
1℃/秒（650℃〜800℃）。
0.5°C /秒（800°C - 1000°C）。
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冷却速度：
15°C /秒（1000 - 950°C）。
10℃/秒（950℃〜900℃）。
7°C /秒（900°C - 850°C）。
4℃/秒（850℃〜750℃）。
２℃／秒（７５０℃〜６００℃）。
1.5℃/秒（600℃ - 500℃）。
1℃/秒（500℃〜400℃）。
0.5℃/秒（400℃ - 300℃）。
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注：最大加熱および冷却速度は、処理管の片側を目標温度に予熱してから炉を反対側にスライドさせることによって達成されます。サンプルを予熱領域に置くかどうかを選択できます。
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加熱ゾーン長
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下の図は加熱ゾーン全体の温度分布を示しています。クリックして拡大してください。
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恒温帯
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2.3 "（60mm）（+/- 1°C）@ 1000°C
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発熱体
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moを添加したfe-cr-al合金
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処理管
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高純度石英ガラス管
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サイズ： od：2 "x id：1.8" x長さ：39 "（インチ）（外径50 mm×内径46 mm×1000 mm l） ）
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2つの発泡セラミックブロックが含まれています。これは、Oリングを損傷する熱放射を避けるためにチューブの内側に配置する必要があります
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温度調節器
＆amp;スライド制御
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加熱速度、冷却速度および滞留時間を正確に制御するための30のプログラム可能セグメント。
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温度過昇防止アラームと保護機能が内蔵されているため、係員なしで操作できます。
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k型熱電対は炉の温度を制御するために炉に内蔵
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オプション：
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炉をインストールすることにより、PCによって操作することができます 制御モジュール 。ご注文ください mts-02制御モジュール 追加費用で炉と一緒にコンピュータ。ソフトウェアのインストールの問題を回避するために、私たちからコンピュータ（ラップトップ）を注文することをお勧めします。
 
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温度精度
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+ / - 1°C
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真空フランジ
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ssニードルバルブおよび真空計付き真空シールフランジは、即時使用のために含まれています
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オプション ：ｋｆ − ２５真空ポートを備えた直径５０ｍｍの管状炉用の真空封止アセンブリ。デジタルゲージ付き1/4フィードスルーは追加料金で利用可能
 
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真空度
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ポンプにより制限されます（ポンプは含まれていません、注文する写真をクリックしてください）
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分子ポンプで10e-5トルに到達可能
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メカニカルポンプによる10e-2トル。
 
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スライドレール/テーブル
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クロムメッキ鋼製ダブルスライドレール
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スライド長さ：1200 mm
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寸法
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正味重量
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90キロ
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出荷パッケージサイズ
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51 "×40"×36 "
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積み込み重量
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230ポンド
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保証
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2年間の製造元限定保証（処理管、Oリング、発熱体などの消耗部品は保証の対象外です。以下の関連製品で交換品をご注文ください）。
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ノートパソコン、ソフトウェア、無線LAN制御（オプション）
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即時使用のためのマイクロソフトの窓10およびマイクロソフトのオフィス2013年（30日の無料トライアル）が付いている真新しいラップトップ。
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labviewベースの温度制御システム 温度プロファイルの編集、熱処理レシピの管理、マルチ炉のデータの記録とプロットを可能にします。
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ワイヤレスリモコンは最大300メートルの動作範囲を提供します。
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上記の機能は、追加料金（最大1,000ドル）でリクエストに応じて利用できます。詳細についてはお問い合わせください。
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注意： このソフトウェアは、mtiのユディアン温度コントローラとのみ互換性があります。
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コンプライアンス
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CE認定
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すべての電気部品（24V以上）はul / met / csa認証済み
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炉は、追加料金でtuv（ul61010）またはcsa認証に合格する準備ができています。
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アプリケーションノート
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石英管を有する管炉は真空下および低圧下で使用するために設計されている。 0.2バール/ 3 psi / 0.02 mpa
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注意：安全な操作のために2段階の圧力調整器をガスボンベに取り付けて圧力を3 psi以下に制限する必要があります。
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ガスの流速は＜に制限されるべきである。チューブへの熱衝撃を減らすために200 sccm（または200 ml / min）
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すべての石英管炉の真空限界の定義：*真空圧は1000℃までで安全に使用できます
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ここをクリックして学ぶ マルチチューブ炉用の石英/セラミックチューブと真空フランジの設定方法 。
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あなたがより速い冷却を必要とするならば、注文するために下の絵をクリックしてください 携帯用スポットエアコン 。
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cvdの後、ほとんどの用途でグラフェンは金属触媒から他の基板に移動しなければなりません。を使って グラフェン転写テープ 、残余は低くなる場合があります。
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水平方向 指向性結晶化（hdc）では、右下の写真のようにガス供給装置を使用することができます。
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警告
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加熱チャンバーをスライドさせることで、迅速なサンプル冷却を実現できます。耐熱スーツなどの保護具を着用してください。あなたがそうするつもりなら手袋。
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チューブが熱いときはチューブ表面に触れないでください。
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Louis@lithmachine.com
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