3つの2インチマグネトロンスパッタリング源を有する実験室用コンビナトリアルプラズマスパッタリングコーティングコーター機

:
VTC-600-3HD-LD
MOQ :
1
Compliance:
CE Certified
Warranty:
1 year
Delivery Time:
5 days
電子メール :
Louis@lithmachine.com

3つの2インチマグネトロンスパッタリング源を有する実験室用コンビナトリアルプラズマスパッタリングコーティングコーター機

vtc-600-3hd-ldは、3つの2インチマグネトロンスパッタリングソースと3つの高周波/直流電源を備えたコンビナトリアルプラズマスパッタリングシステムです。そのようなスパッタリングシステムは、最大３つの異なるターゲット材料まで同時スパッタリングすることができ、基板にわたって様々な組成プロファイルを作成することができる。（リチウムイオン二次電池用三元材料など）。このシステムは、強誘電体、合金、半導体、セラミック、誘電体、光学、酸化物、硬質、ptfeなどの多層フィルムの連続コーティングにも適しています。

仕様

コンパクトな構造
入力電源	単相220 Vac 50/60 hz 2000ワット（真空ポンプと水チラーを含む）
ソース電源	3つのスパッタリング電源が1つのコントロールボックスに統合されています（詳細な仕様を見るには下の写真をクリックしてください）直流電源：金属材料をコーティングするための500ワットの電力（写真1）高周波源：300 Wの電力、非導電性材料をコーティングするための13.56 MHzの周波数（写真2）
マグネトロンスパッタリングヘッド	3つの2 "マグネトロンスパッタリングヘッド水冷ジャケットとシャッター付き 1つのスパッタヘッドモデルも利用可能です。目標サイズの要件：2 "直径厚さ範囲：金属製および非導電性ターゲット（バッキングプレートを含む）の両方で0.1 - 5 mm 1 ステンレス鋼ターゲットそして1つの研究グレード al 2 o 3ターゲットデモテストに含まれていますご要望に応じて、オプションの2インチスパッタリングターゲット（またはバッキングプレート）を追加料金で利用できます。推奨されるスパッタリングレシピと役に立つヒントカスタマイズされたコーター：2 DC - 1 RF。 2つのRF - 1つのDC。 3 dc。 3つのRF（製品オプションから選択してください）任意：148 cmのrfケーブルは取り替えのための追加費用で発注することができます
真空室	真空チャンバー：直径３００ｍｍ。高さx 300 mm、ステンレス製ビューポート：直径100 mmの2つの部分。ガラス。 1つ修正しました。清掃と交換のために取り外し可能なもの空気圧電柱付きの蝶番タイプのふた
サンプルステージ	サンプルホルダーは、銅製カバー付きのセラミックヒーター製の回転および加熱可能なステージです。サンプルホルダーサイズ：直径140 mm。にとって。最大4 "ウェハ回転速度：1 - 20 rpmで均一なコーティングが可能ホルダー温度は、デジタル温度コントローラーを介して、+ / - 1.0°Cの精度で、rtから500°C（最大2時間）まで調整可能です。
ガス流量制御	2種類の精密マスフローコントローラー（mfc）が設置されており、2種類のガスを注入可能流速：０〜２００ｍｌ／分＆ａ。タッチスクリーンのコントロールパネルで調整可能な0 - 100ml /分吸気口バルブは真空開放用に取り付けられています
真空ポンプステーション	移動式ポンプ場が含まれています。スパッタリングコーターはステーションの上に置くことができます最高80L /秒の高速ターボポンプと2段のメカニカルポンプ（220リットル/分）を組み合わせ、最高の真空度とより速い排気速度を実現チャンバーに接続された標準真空度：＆lt; ４．０ｅ − ５トル。。（チャンバーベーキング付き1.0e-6トル）追加料金でオプション 150l / sの高速ターボポンプを選択した場合、真空はチャンバーで10-6トルに達することができます（ベーキングで6x10-7トル） 10 ^ -7トルまでの超高真空のためには、ターボポンプに加えてゲッターポンプ（100l / s H2＆amp; O2）が必要である。詳細なカスタマイズについては、当社のエンジニアにお問い合わせください。 150l / s高速ターボポンプゲッターポンプ
水チラー	デジタル温度制御再循環水チラー含まれています。冷蔵範囲：5〜35°C 流量：16リットル/分ポンプ圧力：14 psi
オプション	精密クォーツ膜厚モニターこれはオプションで、チャンバー内に設置して0.10Åの精度でコーティングの厚さを監視することができます。精度薄膜＆amp; Aコーティング分析システム - eq-tfms-ld 追加料金で利用可能ですリクエストに応じて、さまざまな2インチ酸化物および金属ターゲットを追加料金で入手できます。銀エポキシおよび銅製バッキングプレートはtmaxで注文可能
全体寸法
コーターの正味重量	160キロ
配送重量と寸法	合計3パレット 365ポンド、48 "×40"×45 " 390ポンド、48 "×40"×49 " 210ポンド、48 "×40"×30 "
コンプライアンス	ce承認合格証明書（ul 1450）は、請求に応じて追加料金で利用できます。見積もりについては、営業担当までお問い合わせください。
保証	生涯サポート付き1年間限定保証
アプリケーションノート	安全に使用するには、ガスシリンダーに2段階の圧力調整器（別売）を取り付けてガス出力圧力を0.02 mpa以下に制限する必要があります。チャンバーから酸素を除去するために、tmaxはチャンバーを2〜3回洗浄するために5％の水素+ 95％の窒素を使用することをお勧めします。 10 ppm ＆gt;を使用してください。プラズマスパッタリング用の5n純度アルゴンガスたとえ5n純度のarが通常供給者に応じて10 - 100ppmの酸素とH2Oを含んでいても。 tmaxはあなたが使うことを勧めますガス浄化装置満たす前にガスを浄化するため。最高の性能を得るためには、非導電性ターゲットに銅製のバッキングプレートを取り付ける必要があります。ターゲットボンディングについては、以下の説明ビデオを参照してください。リスは単結晶基板をaからzに供給するリススパッタリングコーターはalの上に首尾よくznoをコーティングしました 2 ○ 3 500℃の基板薄膜/被覆電極の柔軟性をテストする eq-mbt-12-ldマンドレル曲げ試験機。高電圧！スパッタリングヘッドは高電圧に接続します。安全のために、オペレータはサンプルローディングとターゲット交換操作の前にrf / dcジェネレータを停止しなければなりません水チラーで水道水を使用しないでください。錆や腐食を防ぐために防錆剤を使用する必要があります。