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特徴
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semサンプル用の導電性金フィルムをコーティングするために特別に設計された
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金、白金、銀などの金属コーティング用に設計された小型プラズマスパッタリングコーター
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1 2 "ゴールド（4n）ターゲット 含まれています
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入力電圧
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220 vac 50 / 60hz、200w
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＆lt; 1000 W（真空ポンプ出力を含む）
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110vac電源は 1000 Wトランス（15 Aヒューズ） 。変圧器は別売りです
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出力電圧
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スパッタリング電流
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0〜50 ma（最大）の調整可能スパッタリング電流
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デジタル電流計（ma）
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過電流保護
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スパッタリング時間
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試料室
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石英ガラス管、外径165 mm。内径150 mm、高さ150 mm
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試料ステージ
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直径2 "
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高さ調整可能、サンプルからターゲットまで30 - 80 mm
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スパッタリングヘッド
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2 "マグネトロンスパッタリングヘッド
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ターゲット保護のための1つの手動シャッター
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真空圧
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デジタル真空圧力計（PA）
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kf25真空ポンプコネクタ
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メカニカルポンプによる到達真空度1Pa。ポンプは含まれていません
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真空ポンプ（オプション）
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二段式ロータリーベーンポンプeq-fypを推奨します。
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オプション：あなたは ターボポンプ ターボポンプで1.0e-5 torrの真空を達成する（右下の写真をクリック）
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投入ガス
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不活性ガスボンベを接続するために1/4のswagelokタイプの管継手が取り付けられています
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入力ガスを調整するための前面パネルに1つの計量バルブがあります
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ターゲット
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直径50mm x 0.12mmゴールドターゲットが含まれています
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純度4nの金箔：直径50 mm（2インチ）。 x 0.12 mm（含まれ、コーターにプレインストールされています）
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オプションのターゲットが利用可能です
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auターゲット （直径50 mm x 0.12 mm、純度4n）
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ptターゲット （直径50 mm x 0.12 mm、純度4n）
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agターゲット （直径50 mm x 0.5 mm、純度4n）
このモデルは金、銀、および白金をコーティングするのに適しています。エネルギーが低いため、al、mg、zn、またはカーボンターゲットなどの軽金属材料のコーティングには適していません。 当社の高出力dc / rfマグネトロンスパッタリングコーターまたは熱蒸着コーターを検討してください。
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製品の寸法と重量
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460 mm（l）×330 mm（w）×520 mm（h）
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20kg
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配送重量と寸法
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コンプライアンス
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CE認定
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追加料金でul / csa認証に合格する準備ができました。
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保証
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アプリケーションノート
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最良のフィルム - 基板接着強度のために、コーティングの前に基板表面をきれいにしてください：
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次の順番の浴槽 - （1）アセトン、（2）イソプロピルアルコール - による超音波洗浄（注文するには下の画像をクリック） - オイルとグリースを除去する。 n2で基板をブロードライしてから、真空中でホットベイクして、吸収した水分を取り除きます。
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表面の粗面化、表面の化学結合の活性化、または追加の汚れ除去には、プラズマクリーニング（下の写真をクリックして注文する）が必要になることがあります。
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cr、ti、mo、taなどの薄いバッファ層（〜5 nm）を適用して、金属や合金の密着性を向上させることができます。
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安全に使用するには、ガスシリンダーに2段階の圧力調整装置（別売）を取り付けてガスの出力圧力を0.02 mpa以下に制限する必要があります。 ＆gt;を使用してください。プラズマスパッタリング用5n純度arガス
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スパッタリングコーターは、コーティングのためにArおよびN2ガスグローブボックスに入れることができます。
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それは水冷を持っていないので、コーティングの厚さを増やすために複数のコーティングをしてください、それぞれの使用の間にserval分の間機械を冷却させてください
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高電圧！スパッタリングヘッドは高電圧に接続します。安全のために、オペレータはサンプルローディングとターゲット交換操作の前に装置をシャットダウンしなければなりません
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このモデルは、低エネルギーのため、al、mg、zn、またはカーボンターゲットなどの軽金属材料のコーティングには適していません。当社のマグネトロンスパッタリングコーターまたは熱蒸着コーターをご検討ください。 （詳細は下の写真をクリックしてください）
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Louis@lithmachine.com
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